氧气纯化装置采用特制催化剂，以工业氧气为原料气，通过催化氧化工序脱除H2、CO和烃类；经冷却系统、气水分离器、吸附干燥脱除H2O、CO2，两塔交替工作、再生。本工艺不能脱除氧气中的氮、氩等惰性气体杂质。

1. 处理气量：?1~1500 Nm3/h(可根据用户需要订做非标设备)
2. 原料气要求：?工业氧
3. 工作压力： 0.2-0.8MPa可调
4. (氧气纯化装置)净化效能：纯化后符合并高于GB/T14599-2008的99.9996%要求

1. 净化器采用特殊结构和装料方法，流速设计合理，气流分布均匀；本净化机的催化剂活性高，吸附剂容量大，故使用成本更低。
2. 全BA级内外精拉管管路。采用进口卡套式球阀。杜绝了气体流经管路的再次污染，一次安装终身使用，真正做到零泄漏及无故障运行；
3. 双式结构,开机后一组工作，另一组再生、备用,而且RZ-YYC系列半自动纯化装置工作和再生都自动进行,故能够连续供气,一台能顶单式的两台使用。亦可根据客户需要，定做全自动操作方式；
4. 抗波动能力强：对原料氧气要求不高，允许杂质氧含量高达1000ppm，因此，用户选用廉价的工业氧气作气源也能达到要求；
5. 可根据客户的原料气指标和产品气要求，采用不同工艺最经济来满足客户需要。

该系列氧气纯化装置适用于需要大量高纯氧气的半导体、光纤、晶体管，显像管等主要生产部门。